热推信息
|
企业分站
|
网站地图
|
RSS
|
XML
网站首页
关于我们
公司简介
产品中心
磁控溅射
电弧熔炼
磁控与离子束复合
离子束镀膜
共溅薄膜制备
电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜
热阻蒸发
新闻资讯
公司新闻
行业新闻
常见问题
招贤纳士
招贤纳士
资质荣誉
资质荣誉
代理产品
代理产品
联系我们
联系我们
您当前的位置 :
首 页
> 标签搜索
产品(1)
新闻(43)
当前标签:
电弧熔炼
电弧熔炼
为你详细介绍
电弧熔炼
的产品分类,包括
电弧熔炼
下的所有产品的用途、型号、范围、图片、新闻及价格。同时我们还为您精选了
电弧熔炼
分类的行业资讯、价格行情、展会信息、图片资料等,在全国地区获得用户好评,欲了解更多详细信息,请点击访问!
分类:
电弧熔炼
磁控溅射系统的设计方法
2021-01-22
磁控溅射系统是现代工业中必不可少的技术之一。磁控溅射镀膜技术被广泛应用于透明导电膜,光学膜,超硬膜,防腐膜,磁性膜,抗反射膜,抗反射膜和各种装饰膜,在国防和国防领域日益强大和重要。经济生产。在实际生产中,诸如膜厚均匀性,沉积速率和涂布
了解详情 +
磁控溅射靶材的利用率
2021-01-11
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。目前没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道,而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶,即靶材与磁体之间无相对运动且
了解详情 +
磁控溅射时气体被电离
2021-01-05
磁控溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材,电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下,产生的离子数目少,靶材溅射效率低;而在高电压和高气压下,尽管可以产生较多的离子,但飞向基片的电子携带的能量高,容易使基片发
了解详情 +
磁控溅射的迟滞效应
2020-12-25
磁控溅射的迟滞效应典型的迟滞效应曲线所示。从中可看出,在开始阶段随着反应气体流量的增加,反应气体分压变化缓慢,这是因为在这阶段几乎所有的反应气体都和溅射出的金属原子发生了化合反应,且所沉积的薄膜金属含量较高,这一阶段称为“金属模式”。当反应
了解详情 +
磁控溅射预处理的目的
2020-12-18
一、镀前预处理镀前磁控溅射预处理的目的是为了得到干净新鲜的金属表面,为最后获得高质量镀层作准备,要进行脱脂、去锈蚀、去灰尘等工作。步骤如下:第一步:使表面粗糙度达到一定要求,可通过表面磨光、抛光等工艺方法来实现;第二步:去油脱脂,可采用溶剂
了解详情 +
磁控溅射的材料不同结果会有什么不同
2020-12-11
用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源
了解详情 +
首页
上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
4/8
下一页
尾页
第1页
第2页
第3页
第4页
第5页
第6页
第7页
第8页
网站首页
关于我们
产品中心
新闻资讯
招贤纳士
资质荣誉
联系我们
曹经理
18102435282
15142553101@163.com
沈阳市浑南区祥瑞产业园
18102435282
在线留言